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近期，外网上有一个关于中国国产光刻机的话题引起了许多人的广泛参与和讨论，其中一位荷兰工程师的看法让许多人颇为认同，从某个层面上来说，也点出了当下中国EUV光刻机发展的状况和前景。
该荷兰工程师有一句话获得了许多人的认可和赞同，其称：“物理定律是相同的，荷兰能够造出来，中国也可以。”
那么中国究竟能否实现国产EUV光刻机，中国又面临着哪些需要解决的难题呢？
制造EUV光刻机有多难？
想要了解中国是否能够实现国产EUV光刻机，就必须要先了解制造EUV光刻机有多难。
许多人将EUV光刻机称为“现代工业皇冠上的明珠”，由此可见，EUV光刻机在现代工业当中的地位，以及其难度了。作为集工业大成的技术结晶，当下没有任何一个国家能够不依靠外界的技术独立生产出EUV光刻机。
目前，国际上能够生产EUV光刻机的企业只有荷兰的ASML一家，然而ASML能够生产EUV光刻机，并不在于其技术多么出众，而是ASML依托于全球化供应链，整合了各国的顶尖科技资源，借助了欧美各国的顶尖技术，才成功制造出EUV光刻机。
在技术上依赖于美国、欧洲等国家也是ASML无法自由出货的根本原因，从一个角度来看，ASML都无法控制EUV的出货，也能够看出在EUV光刻机当中欧美各国参与比例之重了。
ASML的CEO温·彼得也曾经公开表示：“中国不太可能独立造出顶级光刻机。”
EUV光刻机所面临的四大核心难点
中国制造EUV光刻机当下主要面对着四大难点，分别是双工件台、物镜系统、光学系统、控制系统等四个核心难点。为什么说中国制造EUV光刻机当下主要面对这四大难点，主要在于，这四点对于相关技术的要求都极高。
以双工件台举例，该技术可以使EUV光刻机同时进行两块晶圆的保管，而两块晶圆曝光还要保持极高的同步水准，两块晶圆曝光之间的误差不能超过2nm，这是一种什么概念呢。就好像一个人在一辆高速行驶的汽车上面，使用简易的工具刀在另外一辆高速行驶的汽车上面在米粒大小的工具台上进行刻字。
这不仅仅对刻字的技术有所要求，还要求两辆汽车的行驶速度保持一致，两车之间的间距保持一致，并且不能有丝毫的误差，不能有抖动。由此就可以看出，双工件台之中的技术要求之高，以及完成这一技术的难度之高。
再以光学系统举例，EUV光刻机的光源属于极紫外光，该光源的波长达到了13.5nm，由于该光源不容易被吸收，所以每次反射都会损失一部分的能量，而光学系统就要求降低每次反射时候的能量损耗，因此，对光学系统的镜面有着极高的要求和标准。
这种要求之高，甚至达到了苛刻的程度，相当于制造德国面积大小的镜子，而这面镜子表面要极度平整，上面的凸点甚至不能高于1nm。目前只有德国的蔡司镜头等极少数的企业能够达到标准。
软件也是光刻机制造难点之一
除了硬件上面所面对着的四大核心难点以外，中国光刻机在软件方面也面临着不小的难点。制造EUV光刻机需要用到顶尖的EDA工具，而该软件工具中国企业目前也无法独立制造出，需要依靠国外相关企业的技术，使用国外企业的EDA工具。
虽然EDA工具并非制造EUV光刻机的必需品，但是如果没有顶尖的EDA工作，那么制造EUV光刻机的难度必然会成倍的上涨，对于硬件的要求也会成倍上涨，这就导致了，中国想要制造EUV光刻机，除了在硬件技术方面要有所突破之外，还必须要掌握顶尖的EDA工具。
中国能否独立制造EUV光刻机？
从EUV光刻机的制造难度上来看，中国是很难独立制造出EUV光刻机的，毕竟当下光刻机领域的龙头企业ASML都需要在整合全世界的供应链，再加上美国的技术才能制造出EUV光刻机，而中国并不能整合全世界的供应链，毕竟当下EUV光刻机各部件提供企业大多都受限制于美国，不愿意提供相关技术和产品给中国企业。
然而这并不意味着中国不能实现独立制造EUV光刻机，原因在于，中国国内有许多企业设计了EUV光刻机四大件的研发。再加上上海微电子已经具备了整机制造的条件。当下中国只要在四大件方面取得研发突破，再在软件EDA工具方面掌握一定的技术，就有可能实现EUV光刻机的制造。
写在最后：作为现代工业皇冠上的明珠，EUV光刻机的制造必然是十分困难的，毕竟想要摘下皇冠上的明珠肯定不会那么简单。但是中国当下已经有许多企业正在参与到光刻机产业链的研究当中，有多家公司已经在EUV光刻机核心四大件方面取得了不小的技术突破，而上海微电子也掌握了整机组装的条件。正如荷兰工程师所说的那样，物理规则在荷兰和中国是相同的，没道理荷兰能够造出EUV光刻机，而中国造出不来。
对此！你们是怎么看的呢？
