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芯片制造涉及到大量的半导体设备，材料。比如芯片光刻过程中会用上光刻机和光刻胶。但是这两种不同的设备，材料几乎都被国外供应商垄断。
荷兰ASML把控高端光刻机，日本供应商垄断大部分光刻胶材料市场。而国产厂商也在努力进步着，其中徐州博康成功打破日本光刻胶垄断，还获得了华为3亿元投资。
那么光刻胶有多重要？国产光刻胶进展如何？
光刻胶的重要性
在芯片行业，大部分的人将目光集中在光刻机，刻蚀机等重要的半导体设备，因为这些设备占光刻工艺的大部分成本。
一台高端EUV光刻机售价1.2亿美元，高端刻蚀机的价值也在几千万美元以上。几乎占据了整个芯片制造国产中的十分之四的成本。
但是有一项重要的材料经常被人忽略，它在芯片制造的成本中可能不到十分之一，却有着决定性的作用，这项材料就是光刻胶。
光刻胶是一种化学材料，它的重要程度是非常高的。在光刻机运作的过程中，将设计好的芯片线路曝光在晶圆表面，而在此之前需要在晶圆表面涂抹光刻胶材料。
光刻胶的表层有一种光敏材料，一旦经过曝光，就会消解。得到曝光后的光刻胶会显现出芯片线路，此时刻蚀机沿着光刻胶显现的芯片线路进行刻蚀，然后晶圆上就会完整复刻出电路图了。
看到这里应该就能明白，如果没有光刻胶，那么芯片线路是无法在晶圆表面成形的，也无法顺利造出芯片。虽然光刻胶的成本不如光刻机，刻蚀机，但是却起到了四两拨千斤的效果。重要性不言而喻。
但是这么重要的材料却被日本垄断，日本东京应化、JSR、信越化学、富士电子材料等日企掌握全球80%以上的光刻胶市场。其中东京应化在高端EUV光刻胶领域占据绝对的市场地位，而JSR在ArF光刻胶当中市场份额全球第一。
其实光刻胶也是有种类之分的，技术壁垒从低到高分别为G线、i线、KrF、ArF、EUV光刻胶。按照不同的应用场景，还可以分为PCB光刻胶，半导体光刻胶。
当然，在半导体应用场景，从G线到EUV才是重点。从ArF开始，基本上就涉及到高端制程了。而纵观国内光刻胶的进展，也有国产企业打破日本在高端光刻胶的垄断。
国产光刻胶进展如何？
由于国产光刻胶起步较晚，很多产业链，原材料核心技术等等都需要从头积累。但经过国产厂商的刻苦攻关，终于取得了理想的进展效果。
比如一家名为徐州博康的公司，在2010年成立之后，专注光刻胶产业链的布局，从单体材料到专用树脂，再到最终的光刻胶成品等等，都实现了国产化。
在有了自主产业链的支持下，徐州博康实现单体材料的自给自足，也顺利完成了产业化的高端光刻胶单体材料量产。在该市场掌握全球5%的市场份额，一举打破日本光刻胶的垄断。
徐州博康目前拥有40多家客户，为行业提供浸没式光刻胶，KrF正负型光刻胶，掌握的高端光刻胶系列产品多达20个以上。
除此之外，徐州博康拿下全球80%的专利，荣获华为哈勃公司3亿元的投资。在华为哈勃所有的半导体投资项目中，徐州博康拿到的投资额度是最高的。也由此能够看出，徐州博康备受资本市场关注。
从徐州博康取得的产业成果来看，其实也代表着国产光刻胶的进展。或许光刻胶的市场规模远不如光刻机，刻蚀机，但是如果没有光刻胶的参与，上下游的芯片制造产业照样无法运行。
而我们需要做到的，不仅仅是打破垄断，还要实现全产业链的国产化。让除了徐州博康公司之外，其余的南大光电、上海新阳、晶瑞股份等等国产光刻胶厂商，也能在这样的产业链环境下，取得更大的进步，为国产芯片制造添砖加瓦。
在这些国产光刻胶厂商当中，南大光电的进展同样令人瞩目的。该公司的多款产品获得客户验证，ArF光刻胶产品可覆盖至14nm制程。去年中旬，南大光电还建立起了产值25吨的生产线，稳定市场供需关系。
总结
综合而言，光刻胶是半导体行业的基石，看似无关紧要，实则影响全局。相对于光刻机来说，光刻胶的研发难度并没有那么大，所以这或许是一个前进的方向，期待国产能取得更大的进展。
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