2020年对于中国半导体行业来说，是砥砺前行的一年，因为美国一纸禁令，必须使用EUV光刻机的华为5纳米芯片，麒麟9000无法生产，让很多国人既气愤又无奈。
可以说，每一位关心中国科技发展的小伙伴都在问，到底什么时候，我们国产光刻机能够问世，到底什么时候，我们自己的光刻机能给华为代加工高端芯片？今天我们就来聊聊这个话题，做一个关于国产光刻机的小盘点，来梳理一下国产光刻机的发展现状。
今天我们先以问答的形式来进行，具体如下：
1、我们有国产光刻机吗？
答案是有，生产企业是上海微电子。
2、国产光刻机现在能做到什么程度？
我们在上海微电子官网可以看到，2018年3月，上海微电子的90nm光刻机项目通过正式验收。也就是说，我们的国产光刻机目前可以做到90纳米工艺。
3、国产28纳米光刻机是什么情况？
之前有网友爆料，上海微电子将于2020年12月下线首台采用ArF光源的SSA800/10W光刻机，这是一台国产浸没式 DUV 光刻机，可实现单次曝光28nm节点。所以网络里一直流传着这个说法。不过对于此消息，有人说是真的，有人说是假的。让人很是迷糊。
为此，我特意进行了求证。那么求证的过程中，我发现这样一条信息，或许可以说明一些情况。
它是一篇来自江苏省开发区协会曾经发布的文章，标题为：科益虹源集成电路光刻光源制造及服务基地项目开工。文章里提到，到2020年产品将与整机单位共同完成28nm国产光刻机的集成工作。
也就是说，科益虹源的准分子激光器将会配套到上海微电子的光刻机中，而这台计划中的光刻机可以实现28纳米工艺。
因为发布渠道的属性，我们基本上可以肯定，可以实现28纳米工艺的国产光刻机确有其事，并且原计划是2020年下线。
不过，不知道是什么原因，官网的这篇文章已经被删除。但可以在天眼查里科益虹源的相关页面中看到，系统抓取留存的这条信息。
另外，现在已经进入2021年，是否按照计划完成了28纳米光刻机？我们在上海微电子官网或者其他官方网站都没有查到相关信息。
还有2则报道：
一个是方正证券去年发布的相关信息例显示，国家 02 专项光刻机项目二期拟于 2020 年 12 月验收由上海微电子设计集成的 193nm ArF 浸没式 DUV 光刻机。
二是知名媒体DIGITIMES曾报道，上海微电子有望在2021年四季度交付第二代深紫外光（DUV）光刻机，该设备可实现28纳米工艺。
所以，基本上可以做实，上海微电子的确在做可以实现28纳米制程的国产DUV光刻机。只是是否通过验收，到底何时能交付，目前未知。
5、28纳米是什么水平？
28纳米将会是我们国产光刻机的最高工艺水平，严格来说，这个真的算不上高水平，它的前面还有14、7、5、3、2，甚至是1nm。
但是28纳米是成熟工艺，生产成本低，只要不追求极致性能的情况下，这种制程的芯片，其性能也够用的，用来生产我们日常生活中的电子设备是没有问题的，例如电视、电视盒子、音响、电梯、空调、微波炉、冰箱、汽车等等。
或者你可以这样理解，在小型设备中，需要更低制程的芯片，例如手机，因为空间有限，想要实现更好的性能，芯片就需要更加先进的生产工艺。
另外，根据研究机构IC Insights发布的《2020-2024年全球晶圆产能》报告，预计到2024年，半导体制程格局将出现10nm以下，10-20nm，20nm以上工艺三分天下的格局，各自市场占有率约为1/3，而28nm以上的成熟工艺在未来四年的市场份额没有明显变化，仍然有很大的市场。
所以无需盲目地追求制程工艺。
最后，我必须要告诉大家，我的国产光刻机是最牛的。为什么？因为全世界，只有中国，能够做到纯国产的光刻机。即便是荷兰ASML，这个光刻机巨头，其产品也是集合多国精尖技术于一身打造的。一旦有一天，因为种种原因，荷兰被限制某些技术，那么其光刻机就很有可能会停产。因为各项技术都是全球最顶尖的，可替代性微乎其微。即便找到替代技术，可能也会严重影响光刻机的生产以及后续芯片制造环节。
而反观我们国产光刻机，全部技术都是自主研发，它由上海微电子负责总体集成：
超精密光栅shan系统来自中国科学院上海光学精密机械研究所物镜组来自北京国望光学光源来自科益虹源浸液系统来自浙江启尔机电双工件台来自华卓精科
所以即便是世界出现问题，例如当下的疫情，甚至发生战争，对我们都不会有任何影响。当然，这需要我们具备完整的国产半导体产业链。
总之，国产光刻机在路上，距离世界顶尖技术的差距虽然很远，但我们已经在奋力追赶，随着我国科学技术人才不断井喷，国家战略方向的扶持，企业研发力度的不断加大以及全国人民的大力支持，胜利之日绝对不会遥远。未来，全球半导体的格局，将会发生变化，迁移到中国也是不无可能，因为这里既有光刻机产品，也有光刻机市场，因为中国是世界半导体需求量最大的需求方，无人能够替代。
我是老万，记得关注我，谢谢大家，我们明天不见不散。
