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欧媒:中芯国际或有意避开光刻机生产芯片!

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中芯国际或有意在避开ASML光刻机制造芯片,这是欧洲媒体发出了最新声音。

华为能够自研各种芯片,像巴龙5000、麒麟9000等,都是当时最先进的5G芯片,但由于台积电不能自由出货,导致这些芯片无法生产制造。

但国内厂商已经能够量产14nm等先进工艺芯片,N+1工艺也进行了小规模试产,并到达了预期效果,结果华为麒麟芯片也没有采用这些工艺。

原因是美要求凡是采用美技术生产制造的芯片,出货都需要经过美的许可,台积电、中芯国际都采用ASML的光刻机等技术,导致其不能自由出货。

于是,华为近三年研发投资持续增长,2022年超过1600亿元,再创新高,三年共计研发投入超过4000亿元,不受营收和利润控制。

关键是,华为实现了14nm以上EDA软件国产化,今年将全面验证;华为突破了ERP系统的封锁,并实现超13000颗元器件、4000块电路板国产化。

孟晚舟更是明确表示,华为坚持奋斗,向死而生,怎么能不成仁。

中芯国际方面的动作也明显,三方协议达成后,ASML明确表示预计6月份将不能出货部分型号的DUV光刻机,暗示有需求的厂商尽快下单。

但中芯国际方面却没有任何消息传出来。

要知道,中芯国际曾一次性购买价值11亿美光的光刻机,还将2022年的资本开支从50亿美元提升到66亿美元,也是用于先进设备购买。

另外,中芯国际预计今年底,将会有折合八寸晶圆超70万片的产能。

但在ASML被进一步限制出货之际,中芯国际的表现却很平淡,甚至传出中芯国际与ASML中断部分合作的消息。

所以欧媒表示中芯国际或在避开ASML的光刻机,因为华为、中芯国际等在发展其它芯片制造技术。

首先,华为自研堆叠芯片和光电芯片

余承东已经公开表示华为未来会采用堆叠技术的芯片,从而解决高性能芯片的问题。

目前,华为已经公布了多项与堆叠芯片相关的技术专利,主要解决功耗、堆叠方面是问题。

华为还在研发光电芯片,用美的话说就是,华为在光电芯片技术方面领先,希望华为能够共享相关技术。

相比传统的硅芯片,光电芯片更适合万物联网,其能够带来更快的传输速度和效率。

于是荷兰也宣布进入光电芯片领域,预计投资11亿欧元,希望打造下一个ASML。

其次,中芯国际不断降低芯片风险。

中芯国际一直都在扩大成熟工艺芯片的产能,这不仅是因为成熟工艺需求紧缺,需求大,也因为中芯国际不断降低成熟工艺的风险。

上海微电子已经突破90nm光刻机,在多重曝光工艺下,可以用于22nm工艺。

有消息称,28nm工艺预计今年将会全面实现国产化,这意味着中芯国际28nm工艺就不需要ASML的光刻机。

另外,中芯国际还在打磨N+1等工艺,并研发小芯片相关技术,这些都是为了降低对ASML光刻机的依赖,甚至完全避开。

最后,华为已经宣布实现14nm以上EDA工具国产化,今年将联合国内厂商进行全面验证,也就是说,华为正在联合国内厂商打造更先进的国产芯片生产线。

对此,你们怎么看,同意看好国产芯的请点赞留言。

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