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光刻机的技术有没有可能是外星科技,欧美各国瓜分了技术?

时间:2022-04-18 14:14:35 热博 我要投稿

没有可能是外星科技,如果是外星科技现在就不是7nm技术了,就是1nm技术,甚至更极限的技术了。

大部分人不了解光刻机的发展历程,所以对于光刻机的原理,以及发展到如今,成为制约我们国家芯片发展的主要障碍,都感觉到迷惑。

我们先来说说光刻机的发展历程,让你明白光刻机是怎么来的?

1978年英特尔制造了第一个CPU名为i8086,这一款CPU所使用的指令集,后来被命名为X86指令集。这是世界上第一款微处理。英特尔之前的产品主要都是存储器。

同年1978年,美国GCA公司制造了第一台光刻机。工作节点是1.5μm(也就是1500nm),之后经过多年的发展,逐步发展到1999年的180nm。

这个时期采用的激光的光源,都是波长都比较长。有436nm,和365nm,之后开始使用248nm的波长作为光刻机。

在2001年后,光刻机市场在193nm光源处,停滞了多年。一直无法突破,没有办法在波长下降的同时达到能量的不变。

因此,经历了长达20年的研究(1999年就开始研发级紫外线技术,光刻机),终于在2013年成功,并且量产出货。如今EUV光刻工艺,已经到5nm工艺阶段,7nm工艺已经非常成熟。

2、光刻机的原理是啥?为什么他不是外星人的技术?这其实就是激光雕刻机!全球激光技术起步很早,使用激光去除在硅表面的保护膜,蚀刻液会腐蚀保护膜较薄的地方。原理上就好像使用激光打标机,或者说激光刀切割东西是一个道理。但又有区别。

光刻的概念,最原始的应用,就是使用激光的高能量,可以灼烧,实现切割,雕刻。应用在芯片制造中,并不是直接的光雕刻,而是曝光后,蚀刻。有些类似于中国古人在石碑上,有腐蚀性液体写字,这种道理。

后来缓慢的技术发展,不断地寻找更小的激光束,用来去除多晶硅表面的掩膜。也就是相当于,找到更小的刻刀,用来雕刻。

这个原理其实很容易理解。

其实就相当于,将放大的一个电路板,根据光照的情况,哪里没有遮挡,就会有光投过去,通过一个镜头(物镜)将激光投射到下面的晶圆上面,有激光照射的地方除去表面的掩膜,蚀刻液就会立刻进行雕刻。

这是多么单纯的技术,怎么能说是外星人的技术?外星人有这么low吗?

3、如果你清楚,尼康,佳能,ASML就知道知道,这就是人类的技术!从上世纪开始,尼康,佳能,ASML三家就一直把持着光刻机的市场。

整个光刻机的市场,就是在光学技术领域的发展中不断进化的。所以不存在所谓的外来世界的技术。只是技术的进步比较快,并且我们国内错过了比较好的时期而已。

4、中国很早就开始研发光刻机了1980年之前,中国其实很早就研发光刻机了。1978年上海光学机械厂就已经研制陈宫了JKG-3光刻机。当时ASML还没有成立,佳能,尼康还是光刻机行业的大佬。那个时候,国内同国外虽然有差距,但是还没有现在这么远。

在进入1980年之后,国内改革开放,大量国企改组,国家也没有再向之前那样扶持光刻机的发展,并且受到国际市场产品的冲击,国内国企当时的成本较高。没有足够的下游芯片制造市场购买光刻机,产品就逐步淘汰了。

可以说,中国曾经丢失了,我们可以留待今天绝地反击的底牌。