主讲内容
什么是消影ITO
消影ITO的膜层结构
消影ITO的特性
消影ITO技术指标
消影ITO的工艺控制参数
IM膜层调试方法
什么是消影ITO
消影ITO玻璃: 是通过在ITO膜和玻璃之间镀上一层IM膜(INDEX MARGIN层)，使ITO玻璃在刻蚀制作电容屏线路之后，可见光波长500nm—650nm区间,ITO层蚀刻前后反射率△R%<0.5%,减少ITO区域和非ITO区域的视觉反差，使得电容屏ITO刻蚀线条变淡，线路的图案在常光下看不见图案线条，起到消除图案的效果的IM+ITO玻璃。
消影ITO与普通ITO比较，具备同样导电性的同时还以下优点:
1. 玻璃透过率增加，反射率减小具有AR膜功能，在同等 背光源的前提下，能通过减少环境光影响获得更好的视觉亮度；
2. 减少ITO区域和刻蚀后非ITO区域的视觉反差，使得电容屏ITO刻蚀线条变淡，提高视觉效果。
消影ITO的膜层结构
膜系组成：IM(NB2O5/SiO2)+ITO根据ITO阻值不同，IM层厚度也需要做不同的调整。目前常用的消影ITO阻值为80~120Ω/□ITO膜厚范围20-27nm
消影ITO的特性
1.ITO消影玻璃在λ=500~650nm范围，ITO刻蚀前反射R%与刻蚀后反射r%的差小于0.5是最佳的消影效果即符合公式
2.CIE L*a*b*反射颜色值符合公式：(UV-2401PC)
消影ITO工艺指标（内控）——透过与反射
IM层550nm透过率最佳控制在90.5%±0.2%，反射率控制在8.8%±0.2%。
消影ITO工艺指标——颜色指标
消影ITO的工艺控制参数
IM膜层调试
按工艺指导书参考工艺卡，设定各层使用的功率试镀，工艺片采用0.7mm薄片，基板采用客户报废的原基片玻璃。
F20检测薄的膜层时偏差较大，因此，第一层NB2O5膜厚并不准确，调试过程只做光谱曲线参考，主要依据UV2450扫描光谱曲线对照各波段反射指标控制。
膜厚变化调整规律：
当NB2O5层膜偏厚时反射曲线会以中部为点整体上抬，反射率增大，反之，偏薄则会整体下降，趋向平直，反射率减小。
当SiO2层偏厚，反射曲线随着膜厚的增加而下降，且450nm以下越向下弯，反射率减小。超过90nm厚度后，400nm反而向上翘起。膜厚偏薄时，反射率增大，随着厚度减小，450nm以下的曲线逐步向上抬高。
当两层都薄时，曲线变为从400nm向700nm倾斜；当两层都厚时曲线从550nm处前端开始向下弯曲。
IM膜层调试（颜色控制)
颜色值控制负值范围方法：
1、当发现颜色值出现正值，说明600nm之后的反射增加了，查看反射曲线，如反射率在控制范围，只需将第二层膜厚减小，使反射曲线的反射率从450nm向650nm递减，一般情况都可以纠正过。
2、假如反射率曲线都很低，除了减少第二层膜厚之外，第一层适当的增加膜厚。
